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场效应管与mos管的关系 |
什么是n沟道场效应管,双n沟道场效应管
代表符号中的箭头方向表示由p(衬底)指向n(沟道)。p沟道增强型mos管的箭头方向与上述相反,如图(c)所示。n沟道加强型mos管的特性曲线1)输出特性曲线n沟道加强N沟道增强型MOS管的输出特性曲线如图1(a)所示。与结型场效应管一样,其输出特性曲线也可分为可变电阻区、饱和区、截止区和击穿区几部分。2)转移特性曲线转移
╯ω╰ n沟道场效应管是一种存在于半导体表面的电子元件。它通常由一些层次分明的p型、n型半导体构成。在这个半导体结构里面,n型半导体形成了沟道(也叫通道),而p型半导体则连接着沟道两端N沟道结型场效应管的结构如下图所示,它是在N型半导体硅片的两侧各制造一个PN结,形成两个PN结夹着一个N型沟道的结构。两个P区即为栅极,N型硅的一端是漏极,另一
由P型衬底和两个高浓度N扩散区构成的MOS管叫作N沟道MOS管。场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。主要有两种类型(junction FET—JFET)N沟道MOS管场效应管是什么N沟道耗尽型MOS管和N沟道增强型MOS管的结构基本相同。差别在于耗尽型MOS管的Si02绝缘层中掺有大量的正离子Na+或K+(制造P沟道耗尽型MOS管时掺人负离子),故
场效应管的截止区对应三级管的截止区,恒流区对应饱和区,可变电阻区对应放大区。当Ugs为反向电压时,电压越大N沟道越小,当N沟道消失时Ugs那时的电压称之为夹断电压(Ugs(off))。这里N沟道结型场效应管的结构如下图所示,它是在N型半导体硅片的两侧各制造一个PN结,形成两个PN结夹着一个N型沟道的结构。两个P区即为栅极,N型硅的一端是漏极,另一端是源极。结型场效应
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标签: 双n沟道场效应管
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