国内芯片工艺能做多少nm,中国芯片加工能力多少nm

国产芯片最高几纳米 2023-10-13 20:27 725 墨鱼

国产芯片最高几纳米

国内芯片工艺能做多少nm,中国芯片加工能力多少nm

从纳米水平上来说，7nm芯片制造技术水平是一个非常关键的分水岭。目前，一些国内芯片企业在生产更高级别的芯片时仍然存在一定的问题。首先，作为核心技术所在，制造这些芯片需要大但好消息是，经过这么多年的发展，目前除了光刻机之外，其它的半导体设备，我们基本上都达到了28nm工艺，有些更是达到了3nm。这意味着，除了光刻机外，中国大陆在28nm的芯片设备上

那么目前中国能做到多少nm呢？分几种情况，一种是纯国产，全部零件和设备都是中国国产的，这样的话只能做到90nm，因为我们现在最落后的就是光刻机技术，目前只能造出90nm的光刻机。国内水平最高的为上海微电子，其最新型号SSA600/20光刻机工艺达到90nm。据称反复曝光可以生产28 nm，但要增加近百次工序，良品率极低，只有理论上可能，不会有公司采用，道理和ASML

˙▂˙ 那么国产的光刻机到底能够支持多少纳米的芯片工艺呢？其实，通过观察ArFDry极限工艺就能找到答案。下面的图表展示了目前所有制程所对应的光刻机可实现的工艺范围。从图中可以看出，根据参考资料，中国纯国产只能做到90nm，有外来帮助可以生产7nm，目前能够生产的芯片工艺节点主要是在14纳米和90纳米之间。相比于西方发达国家，在制造工艺和设备方面，中国还存在

≡(▔﹏▔)≡ 当前中国芯片产业能够生产的芯片工艺节点主要是在14纳米和90纳米之间，纯国产只能做到90nm，而7nm芯片则良品率不高，在市场上也没有竞争力。造成上述限制的主要因素是芯片制造需要虽然从设计能力上来看，国内早已有厂商能够设计出3nm的芯片，比如华为，但是目前制造设备跟不上，特别是光刻机，国内的分辨率还在90nm，而ASML目前能够卖给中国的最先进的光刻机也

后台-插件-广告管理-内容页尾部广告（手机）

标签：中国芯片加工能力多少nm