中科院辟谣光刻机,中国成功生产5纳米光刻机

中科院辟谣光刻机,中国成功生产5纳米光刻机

光刻机是制造集成电路必不可少的工具之一，而EUV光刻机是未来半导体制造的趋势。近日，中科院传出了EUV光源样机亮相的消息，这一突破将有助于推动EUV光刻技术EUV光刻机何以造出5nm芯片7nm之下不可或缺的制造设备，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF(通快

＋▽＋ 1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展。2.事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种毫无疑问，中科院宣布晶体技术实现重大突破的消息犹如“强心针”一样，为中国半导体的崛起形成了一股推力，有相关人士表示，中国有望凭借着该技术在晶圆检测领域实现技术领先。对此，便有外媒表示

以目前主流的193光刻机为例，其售价为几千万美元。如此高昂的成本严重限制了短波长光源光刻技术的应用。谣言越传越厉害，之后，中科院便紧急发声开始辟谣，表示我们纳米光刻机技术是谣言，前国内的国产水平仅仅只有180纳米。我们都知道，在芯片的整个生产过程中，光刻机是最为重要的一个环节，光刻机

∪０∪ 此前有报道称，中科院的技术得到突破，不用光刻机，国产芯片也可以完成5nm?这一消息实际上属于误读，中科院也紧急出面辟谣。据澎湃新闻报道，中科院的相关论文其实是超分辨率激光光刻技国外媒体纷纷评论道：“光刻机的事情，总算是告一段落了。在美国竭尽全力的封锁下，中国在芯片领域的研发却是越做越大。那些限制芯片生产的政策早晚有一天会落空。这一点连拜登自己

11月29日，中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。消息传着传着，就成了谣言——《国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁，弯道超车》《厉害了我的国，今年7月份，中科院发表的一则《超分辨率激光光刻技术制备5纳米间隙电极和阵列》的研究论文引起了广泛的关注。有媒体将其解读为“中国不用EUV光刻机，便能制造出5nm芯片”，但事实并非