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集成电路的应用领域 |
集成电路制造工艺,集成电路制造工艺论文
集成电路制造工艺集成电路制造工艺一、集成电路设计与制造的主要流程设计---掩膜版---芯片制造—芯片检测—封装—测试沙子—硅锭---晶圆设计:功能要求—行为芯片设计单位和工艺制造单位的分离。即芯片设计单位可以不拥有生产线而存在和发展,而芯片制造单位致力于工艺实现,即代客户加工(简称代工)方式。代工方式已成为集成电路技术发展的一个重要特
集成电路工艺主要包括如下几点内容:图形转换,掺杂,制膜。图形转换:将设计在掩膜版上的图形转移到半导体晶片上,工艺主要包括光刻与刻蚀。掺杂:根据设计需要,将各种杂质掺杂在需要CMOS集成电路制造工艺的详细资料说明从电路设计到芯片完成离不开集成电路的制备工艺,本章主要介绍硅衬底上的CMOS集成电路制造的工艺过程。有些CMOS集成电路涉
经典八步基本工艺即衬底的准备、光刻胶涂覆、软烘焙、曝光、曝光后烘培、显影、硬烘焙和显影检测,涉及主要设备有光刻机、涂胶显影设备、清洗设备和量测设备互补金属氧化物半导体)是把NMOS和PMOS制造在同一个芯片上组成集成电路,CMOS工艺制程技术是利用互补对称电路来配置连接PMOS和NMOS从而形成逻辑电路,这个电路的静态功耗几乎接近为零
光刻技术工艺及应用简单的说用一定波长的波刻蚀材料就是光刻技术,集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗集成电路芯片封装技术封装工艺流程封装工艺流程概述主要内容芯片切割芯片贴装芯片互连成型技术去飞边毛刺上焊锡切筋成型与打码第1页共28页封装工艺流程概述芯片封装始于IC
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