封测光刻机,中国唯一一台7nm光刻机

封测光刻机,中国唯一一台7nm光刻机

ˋ△ˊ 首先声明，封测光刻机不是用于芯片制造的设备。按光刻机的用途来划分的话，光刻机分为前道光刻机和后道光刻机。顾名思义，前道光刻机用于前端环节——制造，后道光刻机光刻机用于后端上海微电子是国内唯一一家掌握设计，集成整机光刻机的制造商，在前道光刻机领域实现了90nm制程光刻机量产。后道封装领域实力更为突出，可满足国内大部分客户在成熟制程领域的需求，

具体来看，中企昆山同兴达搬入了上海微电子的封测光刻机设备，共计两台设备价值3600万元。这类封测光刻机主要负责提高昆山同兴达金凸块封测项目的产能水平。上海微电子金凸块封测光事实上，从现在的情况来看，国产芯在EDA、设计、封测这三个环节均实现了3nm,达到了全球领先水平，现在只有制造卡在14nm了，而制造则主要卡在光刻机上。先说EDA,前面已经提到过，华大九

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封测光刻机主要用于生产半导体芯片中的封装和测试工作，是半导体生产线上不可或缺的重要设备。一、封测光刻机的基本原理封测光刻机是一种利用光学原理进行半导体芯片封装和目前，上海微电子封测光刻机在国内市场的份额达到80%左右，全球市场也占40%。去年11月，上海微电子还推出了首台2.5D / 3D先进封装光刻机。在芯片设计、制造、封测三个环节中，封测的

ˇ０ˇ 但也要知道，整个芯片产业链分布极为庞杂，任何一个领域的疏漏都有可能被“卡脖子”。理性来看，封测光刻机的研发难度虽然比IC制造光刻机要低，但上海微电子在这一领域的努力至少填虽然封测光刻机的技术难度要比芯片光刻机低很多，但值得肯定的是，封测光刻机是集成电路产业的重要组成部分，可实现与先进制程芯片相似功能，这对于缩短国内与国外产品代差具有重要意义