上海微电子14nm光刻机,国产14nm芯片用什么光刻机

华为光刻机自主研发 2023-10-15 20:28 584 墨鱼

华为光刻机自主研发

上海微电子14nm光刻机,国产14nm芯片用什么光刻机

09:00 进馆参观16:00 停止进馆17:00 闭馆时间最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座最新讲座1 2 3 4 5 6据悉，上海微电子目前能够制造90nm光刻机，两次曝光后可以生产45nm芯片。与EUV光刻机的3nm芯片相差5代。但即便是相差5代，上海微电子的光刻机也无法确保稳定性。这就是为什么内地的晶圆厂更愿意选

●▂● 华卓精科表示，其生产的光刻机双工件台，打破了ASML公司在光刻机工件台上的技术上的垄断，成为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司。根据公司2017年年报，华卓精科主要客户为上海光刻机技术到了90nm是一个很关键的台阶，设备制造商一旦迈过90nm的台阶，后面就很容易研制出65nm的光刻设备，之后再对65nm的设备进行升级，就可以研制出45nm的光刻

研发中心致力于为国内外的半导体材料和设备厂商提供一个与生产线环境完全一致的新材料和设备演示验证平台，有效促进半导体制造产业链的整体发展。研发中心具备12英寸制程所需以上的研发投入以及产业上下游顶级供应商的深度绑定这些都是上海微电子所不具备的，上海微和荷兰ASML在光刻机上的差距客观上反映了中国和西方在精密制造领域的差距，一台顶级光刻机的

90nm 级的ArF DUV 干式光刻机基本就是照着ASML 的原型机用进口零件组装出来的，没有什么商用能力，这些年主要靠生产一些后道封装用的低端机台续命。”面对这样的质疑，笔者一方面等待手机验证

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