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多晶硅生长过程 |
单晶硅生长的方法,单晶硅的生长
1. 帕拉法(Czochralski法)这是目前产量最大的方法。将高纯硅原料融化于石英坩埚中,温度约摄氏1420度。使用带有取向的种子晶,缓慢地向上提拉成长单晶硅锭。提拉速率单晶硅棒的主要参数和测试方法单晶硅抛光片的物理性能参数同硅单晶技术参数厚度(T)200-1200um 总
(`▽′) 一、Czochralski法生长单晶硅Czochralski法是一种广泛使用的单晶硅生长方法。该方法基于温度梯度和压力变化来生长单晶硅,首先将粒状多晶硅放置在电加热炉中进直拉法最初是由荷兰科学家Czochralski发明的,但首先将直拉法用于单晶硅生长的是Teal和Buehler,他们在1950年使用石英坩埚通过直拉法生长出第一根单晶硅。最初直拉法生长的单晶硅质
太阳能电池多晶硅锭是一种柱状晶,晶体生长方向垂直向上。图1多晶硅锭铸造设备1.装料将装有涂层的石英坩埚在热交换台上,加入硅原料,然后安装加热设备、隔热设备和炉罩,将炉内抽粗硅→硅粉→三氯氢硅→多晶硅→单晶硅硅单晶生长法1、直拉法(CZ法)2、悬浮区熔法(FZ法)3、基座法4、片状单晶生长法5、汽相生长法6、铸锭法7、液相外延生长法直拉法的优
≡(▔﹏▔)≡ 单晶生长方法介绍1、普通降温法生长单晶是溶液法制备单晶中最简单的一种,适合实验室制备单晶。最初用于生长二磷酸腺甙(ADP,1947年英国人托德合成,一种人工生物单晶体)、磷酸二氢钾(KDP)、磷本发明的单晶硅的生长方法基于切克劳斯基法。对于使用的单晶硅制造装置无特别限定,例如可以使用与以往相同的装置。此外,例如也可以采用与一边施加磁场的一边进行单晶硅提拉的
直拉法最重要的应用是晶锭、晶棒、单晶硅的生长。其他的半导体,例如砷化镓,也可以利用直拉法进行生长,也有一些其他方法(如布里奇曼-史托巴格法)可以获得更低的晶体缺陷密度。内容该方法是利用CZ法从配置在室内的坩埚内的原料熔融液中提拉并生长单晶硅,该方法使用一种单晶生长装置,所述单晶生长装置在配置围绕生长中的单晶的水冷体的同时还配置了包围该水冷体的外周面和下端
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标签: 单晶硅的生长
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